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三靶磁控濺射的技術原理
日期：2026-03-03 11:02
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摘要：
三靶磁控濺射技術是一種高能低溫的表面涂裝技術，它能在金屬表面形成致密、均勻的薄膜。該技術的原理是加熱金屬靶材，使其表面產生電子濺射，同時在真空條件下，在靶材附近沉積工件表面。
磁控電子槍是三靶磁控濺射技術的核心，它能發射高能電子束，利用磁場將其聚焦在靶材表面。電子束會在靶材表面產生電子濺射，從而擊出靶材表面的原子或分子。這些原子或分子以高速飛出，并沉積在工件表面形成薄膜。